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Livre
Cut & care
a chance to cut is a chance to care
Autre(s) titre(s) :
Exposition
;
Exposition ;
Saint-Etienne ;
Saint-Etienne ;
Biennale internationale de design ;
Biennale internationale de design ;
2017 ;
2017 ;
Auteur(s) :
Editeur :
Biennale internationale design 2017
Résumé :
Brochure publiée à l'occasion de l'exposition scénographiée par le collectif KVM (Ju Hyun Lee et Ludovic Burel) lors de la Xe Biennale internationale de design de Saint-Etienne. A travers la notion de "travailleur horizontal", ils y exploraient les différentes mutations du travail à l'ère contemporaine, induites par la mentalité productiviste et encouragées par certaines formes de design, et l'adaptation du comportement et de l'organisation des travailleurs.
Extraits musicaux
Extraits vidéos
Extrait du livre
Biographie
Table des matières
Exemplaires
| Titre | Réserver | Support | Consultation | Bibliothèque | Secteur | Localisation | Cote | Disponibilité |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Cut & care | Livre | Prêt normal | Fonds Régional d'Art Contemporain | Libre accès | Bibliothèque FRAC | TEXT D KVM | En rayon |
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